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晶片黏著機 / Wafer Waxer


濕式化學設備
Wafer Waxer 晶片黏著機
製程應用
  • 採用陶瓷發熱體,適合長時間工作
  • 螺旋式冷水盤設計,快速冷卻
  • PLC設計操作簡單,設有誤觸防止功能
  • 結構簡單,保養容易
  • 機台體機小
  • 採用 Yamaha Robot Servo or 氣動滑台,移動裝置設計將震動減至最低
操作方式

1. 開啟電源 設定加熱面溫度
2. 等溫度上升到設定溫度
3. 將承載盤至於加熱面 加熱
4. 將臘塗抹於承載盤 等待臘融溶 將晶片置於上面
5. 啟動轉移鍵 將承載盤轉移至冷卻面
6. 啟動下壓氣缸 計時啟動 計時結束 氣缸上升
7. 取下承載盤 完成動作

TYPE: W004 晶片黏著機 Wafer Waxer

體積

視實際尺寸

重量

50~90 kg

電源

AC 220 15A

氣壓

3~4 kg/cm2

溫控

PID溫度控制器

氣缸

50X150WA25

發熱溫度

MAX 120℃

 

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