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旋轉清洗機 (晶圓清洗機) / Spin Cleaner (Wafer Mask Cleaner) |
濕式化學設備
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| 適用尺寸 |
2'-12' Wafer |
| 製程應用 |
- 2-12吋 晶圓清洗 2-12inch Wafer Cleaner
- 光罩清洗 Mask Cleaner
- 藍寶石晶圓清洗 Sapphire Substrate Cleaner
- 玻璃基板清洗 Glass Substrate Cleaner
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| 作業選擇 |
Auto / Semi-Auto |
| 產品型式 |
桌上型 / 落地型 |
| 產品簡介 |
- 保證掀蓋不回滴落基板上
- 轉速依客製化提供 : 6,000；8,000；12,000rpm
- 採用高級數AC Servo Motor，捨棄DC Motor
- 控制模組升級化，採用新一代PAC 可程式控制器，捨棄PLC
- 全方位四道防漏設計，無須耽心滲漏造成馬達與真空幫浦損壞
- 真空值未達設定值即未閉合盆蓋無法啟動
- 具漏液/警示/異常記錄等 檢知功能
- 獨創同業同型設備技術:S曲線加速度設計
- 獨創同業同型設備技術: 轉速即時校正編碼器
- 可客製加裝: N2 Purge、Chemical Dispense裝置
- 電控、機構模組化，故障時可立即更換
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| 選配項目 |
- Chemical Supply System
- CO2滅火裝置,IR*1,TH*2
- PLC / PC Base / PAC
- Electrostatic Neutralizer
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