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湿式化学设备 / Wet Bench (Wet Chemical Equipment) |
湿式化学设备
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产品简介
Wet bench (湿式化学设备) 常用于 Developing Process 显影制程，Etching Process 蚀刻制程，Stripping Process 去光阻制程。
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湿式化学设备
| 适用尺寸 |
2"-12" Wafer |
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| 产品型式 | <
清洗台 or 封包清洗工作站
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| 应用产业 |
半导体制程应用产业
TFT-LCD
微机电
触控面板
太阳能
发光二极管
精密薄膜光学
二极管
化学品研发单位
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| 制程应用 |
显影制程
蚀刻(微蚀刻)制程
去光阻清洗制程
去蜡(胶)清洗制程
精密洗净作业
光罩去光阻清洗制程
图形化蓝宝石基板(PSS. patterned sapphire substrate)-高温制程作业
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| 设备型式 |
自动化(Auto)
半自动化(Semi-Auto)
手动式(Manual)
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| 选配项目 |
- Class 100 or 1000
- 操作作业区环境控(Class 100 or 1000)
- 制程记录数据，转换、储存、输出入整合(CIM Connect)
- 化学品供应系统(Chemical Supply System)
- 消防系统(CO2 / IR)
- 可程序化控制系统(PLC / PC Base / PAC)
- 条形码机(barcode reader)
- 自动掀槽盖(Auto Cover)
- 起始放置定位点 (Load/Unload)
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| 产品特色 |
- 化学管路系统、控制阀料件、马达均采进口品。
- 载篮手臂行程型式：
1.前后位移一对一
2.转向、前后、左右、上下位移一对四
3.隧道式，左右、上下、位移接续传输一对多
4.全程转向左右、前后、上下位移一对多槽
等，多项足以满足客制化工艺条件要求。
- 机构模块均以模块化，保固维修便利。
- 系统单元高稳定、高定位、高可调性。
- 作业区酸性液气体多重安全防护，保护操作员作业环境及人身安全。
- QDR模式非常见固定排序式，可自由设定。
- 管路系统配置模块化，非期货库存品厂内均建立安全存量。
- 客制化设计能力佳，高设计能力满足客户制程工艺需要。
- 可结合客户端通讯协议、数据储存、CIM系统，数据分析储存建立管理。
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