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旋转清洗机 (晶圆清洗机) / Spin Cleaner (Wafer Mask Cleaner) |
湿式化学设备
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产品简介
适用于2-12吋晶圆清洗，光罩清洗，蓝宝石晶圆清洗，玻璃基板清洗
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| 适用尺寸 |
2'-12' Wafer |
| 制程应用 |
- 2-12吋 晶圆清洗 2-12inch Wafer Cleaner
- 光罩清洗 Mask Cleaner
- 蓝宝石晶圆清洗 Sapphire Substrate Cleaner
- 玻璃基板清洗 Glass Substrate Cleaner
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| 作业选择 |
Auto / Semi-Auto |
| 产品型式 |
桌上型 / 落地型 |
| 产品简介 |
- 保证掀盖不回滴落基板上
- 转速依客制化提供 : 6,000；8,000；12,000rpm
- 采用高级数AC Servo Motor，舍弃DC Motor
- 控制模组升级化，采用新一代PAC 可程式控制器，舍弃PLC
- 全方位四道防漏设计，无须耽心渗漏造成马达与真空帮浦损坏
- 真空值未达设定值即未闭合盆盖无法启动
- 具漏液/警示/异常记录等 检知功能
- 独创同业同型设备技术:S曲线加速度设计
- 独创同业同型设备技术: 转速即时校正编码器
- 可客制加装: N2 Purge、Chemical Dispense装置
- 电控、机构模组化，故障时可立即更换
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| 选配项目 |
- Chemical Supply System
- CO2灭火装置,IR*1,TH*2
- PLC / PC Base / PAC
- Electrostatic Neutralizer
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